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LC3400 62MPa Hplc Instrumento de Cromatografia Líquida de Alto Desempenho

LC3400 62MPa Hplc Instrumento de Cromatografia Líquida de Alto Desempenho

Instrumento de cromatografia líquida HPLC

62MPa hplc Instrumento de cromatografia líquida

LC3400 hplc Instrumento de cromatografia líquida

Lugar de origem:

China

Marca:

Wayeal

Certificação:

CE

Número do modelo:

LC3400

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Detalhes do produto
Número de bits de injecção:
108 bits ou placas de 96 poços
Detectores:
UVD/DAD/ELSD/RID/FLD
Nome do produto:
Instrumento da cromatografia líquida
Taxa de fluxo:
0.000-12.000 mL/min
Linearidade:
>0,9999
Pressão:
62MPa/75MPa
Fornecimento de energia:
220 V, 50 Hz
Volume de injecção:
1 a 100 μl
Destacar:

Instrumento de cromatografia líquida HPLC

,

62MPa hplc Instrumento de cromatografia líquida

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LC3400 hplc Instrumento de cromatografia líquida

Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1 Unidade
Preço
Negotiate
Detalhes da embalagem
caixa de madeira
Tempo de entrega
30 dias
Termos de pagamento
T/T
Habilidade da fonte
30 unidades/mês
Descrição do produto

Introdução do instrumento de cromatografia líquida HPLC:

A cromatografia líquida de alto desempenho (HPLC) é uma poderosa técnica analítica que separa, identifica e quantifica os componentes de uma mistura líquida.Os compostos introduzidos num solvente passam constantemente através de uma coluna, e separados dentro da coluna à medida que passam pelos materiais de embalagem e saem para um detector, que rastreia e identifica os elementos à medida que saem da coluna,e um gráfico de cromatograma fornece uma análise visual dos compostos.

Parâmetros técnicos do instrumento de cromatografia líquida HPLC LC3400:

Nome do produto

LC3400 Instrumento de cromatografia líquida

Pressão máxima de funcionamento

62MPa/75MPa

Intervalo de definição da taxa de fluxo

0.0000 ∙ 12.0000 mL/min

Incremento de fixação da taxa de fluxo

00,0001 mL/min

Erro de gradiente

≤ 0,75%

Estabilidade do gradiente

00,2% RSD (5% a 95%, 0,2 a 2,0 ml/min)

Erro de definição do valor da taxa de fluxo

± 0,20%

Estabilidade da taxa de fluxo

≤ 0,075% RSD

Autossampler

 

Volume de injecção

100μL, 200μL, 500μL, 1000μL, 1500μL, 2000 μL

Repetitividade

< 0,3% de RSD (2μL·Max),

< 1,0% RSD (0,1μL 1,9μL);

Coeficiente de correlação linear

> 09999

Número de posição da amostra

108 (2*54, 2mL), placas de 96 poços

Intervalo de definição de temperatura

4.0·40.0°C (refrigerador opcional)

Erro de definição de valor de temperatura

± 0,5°C (refrigerador opcional);

Estabilidade de temperatura

± 1°C (refrigerador opcional)

Forno de coluna

 

Intervalo de definição de temperatura

4°C-90°C

Estabilidade de temperatura

± 0,03°C/h

Erro de definição de valor de temperatura

± 0,1°C

Detector UV

 

Ruído de base

≤ 8,0 × 10-6Au (1mL/min, metanol, C18)

Drift de base

≤ 1,0 × 10- QuatroAU/h (1 mL/min, metanol, C18)

Concentração mínima de ensaio

≤ 5 × 10- 9g/mL (naftaleno/metanol)

Faixa espectral

188-900 nm

Erro de comprimento de onda

≤ ± 1 nm

Repetitividade de comprimento de onda

≤ ± 0,1 nm

Distância linear

≥ 1 × 104ou 2,5 Au

Características do instrumento de cromatografia líquida HPLC:

Características da bomba de corrente constante de alta pressão:
1- Pulsação de baixa pressão: o novo projeto de câmara tándem, integrado com a quinta geração de algoritmos inteligentes, através do controlo de "supressão eletrónica da pulsação",Redução da pulsação de pressão· reduzindo ainda mais as flutuações de pressão, para garantir que os resultados dos ensaios sejam mais repetíveis.

Autossampler
1. Agulha no caminho de fluxo: Agulha no desenho do caminho de fluxo, para satisfazer a injecção de amostra com perda zero;
2Fluidos de limpeza personalizáveis: solventes de limpeza personalizáveis para flexibilidade em cenários de aplicação complexos, combinados com enxaguamento interno com agulha para uma contaminação cruzada extremamente baixa.
Câmara de colunas de aquecimento e arrefecimento (CT3400)
1. aquecimento de modo duplo: aquecimento-resfriamento controle de temperatura de modo duplo. padrão com módulo de resfriamento de semicondutores, módulo de aquecimento de resistência.
2Banho de ar: controlo da temperatura da circulação forçada do banho de ar.
3Intervalo de regulação da temperatura: 4°C-90°C;

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